檢索結果：共38筆資料 檢索策略： "化學工程系".dept (精準) and cadvisor.raw="李嘉平"
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本論文是設置一個配備有質譜儀的超高真空系統, 利用TPR 方法(Temperature Progr-ammed Reaction)研究六氟化鎢在復晶鎢上脫附情形及反應機構。 由我們的系統所做得的H…
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本論文藉一自行裝配之超高真空系統，利用程溫脫附的實驗技巧來研究氟化氫在多晶鎢表面的行為。 首先以氫氣在多晶鎢表面的程溫脫附實驗結果來證明此一系統的正確性。所得圖譜可以觀察到三類不同尖峰群，分別為α…
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在此研究中, 我們使用鉑金屬線作為催化劑, 進行甲胺之氧化反應, 發現甲胺氧化反應發生異相起火現象, 而其原因為鉑線催化了由甲胺分解而來的氫氣與氧氣產生反應。 起火現象發生后, 此時反應所放出之熱…
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本研究以有機金屬化合物(hfac)CuI(COD)為先驅物的化學氣相沈積系統探討金屬銅薄膜的成長動力及其材料分析。我們將探討沈積溫度及銅先驅物分壓對反應速率的影響。經由數據分析，探討反應機構及動力模…
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以RF濺鍍來成長TaNx薄膜並觀察N2/Ar流量比對TaNx薄膜之沈積速率、N/Ta原子比、電阻率及結晶結構之影響。實驗結果顯示TaNx薄膜的沈積速率會隨著N2/Ar流量比的增加而下降；TaNx薄膜…
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目前發展的無鉛銲錫以錫(Sn)為基底元素，添加銅(Cu)、銀(Ag)、鉍(Bi)、鋅(Zn)等微量元素之合金。其中以銀-錫-銅三元合金為一大主流，成分以Sn-3.0Ag-0.5Cu (in wt %…
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本研究主要以反應性濺鍍來成長NbNx薄膜於銅-矽基材多層膜系統中擴散阻障層失效機制的研究。觀察N2/Ar流量比對NbNx薄膜之沈積速率、N/Nb原子比、結晶結構、電阻率及表面型態之影響。實驗結果顯示…
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本研究主旨在於利用反應性濺鍍沉積薄膜的方式來製作掺雜10％釓的氧化鈰做為SOFC的電解質材料以取代傳統的YSZ，目前並沒有太多的研究是關於使用反應性濺鍍沉積GDC薄膜，文獻中提到若在離子傳導率同為0…
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本研究以先驅物(hfac)CuI(COD)在不同的TaNx阻障層上，利用化學氣相沉積法(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)進行沉積銅晶種層(Seed l…